X射線光電子能譜儀產(chǎn)品及廠家

PHI Quantera II X射線光電子能譜儀
phi quantera ii 掃描x射線光電子能譜儀（xps）是ulvac-phi公司以在業(yè)界獲得非常卓越成績的quantum 2000和quantera sxm之上延申后所zui新研發(fā)的xps分析儀器，其超卓技術(shù)包括有：一個(gè)獨(dú)創(chuàng)微集中掃描的x射線來源，專利的雙光束的電荷中和技術(shù)，在極低電壓下仍可保持高性能的離子束源以進(jìn)行xps的深度分析，一個(gè)五軸精密的樣品臺(tái)和負(fù)責(zé)全自動(dòng)樣品傳送的機(jī)械手臂，與及一個(gè)完全自動(dòng)化且可支持互聯(lián)網(wǎng)遠(yuǎn)程控制的儀器操作平臺(tái)。quantera ii 掃描x射線光電子能譜儀（xps）增加了這些技術(shù)性能和生產(chǎn)力，再一次提供了zui高性能的xps系統(tǒng)，以滿足您當(dāng)前和未來的xps需要。
更新時(shí)間:2025-04-03
PHI 5000 Versaprobe IIX 射線光電子能譜儀
x 射線光電子能譜（xps）是材料科學(xué)和發(fā)展的領(lǐng)域中最廣泛使用的表面分析技術(shù)。其原理是利用x射線束（一般會(huì)使鋁陽極或鎂陽極）作為入射源，照射在樣品表面導(dǎo)致讓光電子從原子的核心層被激發(fā)出。根據(jù)測得的光電子所發(fā)出的電子動(dòng)能，再依照能量守恒定律就可以知道電子的結(jié)合能，從而也就可知道樣品表面是何物質(zhì)。the phi 5000 versaprobe ii (vp-ii) 能提供高性能的微區(qū)光譜，化學(xué)成像，二次電子成像，其最小的x射線束光柵掃描直徑約為10微米。x射線束的大小可以輕易的使用電腦控制在直徑10微米到400微米設(shè)定，從而達(dá)到最好的空間解釋度與最高的靈敏度。vp-ii 可以輕易的對不管是導(dǎo)體或非導(dǎo)體獲取化學(xué)態(tài)的成像 或是離子濺射的深度分析，樣品例子如催化劑，金屬和電子設(shè)備，玻璃和聚合物，甚至是生物材料和組織等等。
更新時(shí)間:2025-04-03
賽默飛 K-Alpha+ X射線光電子能譜儀系統(tǒng)
thermo scientific k-alpha，一體化結(jié)構(gòu)的x射線光電子能譜儀（xps）。性能先進(jìn)、高性價(jià)比、操作簡便、結(jié)構(gòu)緊湊，是現(xiàn)代實(shí)驗(yàn)室和企業(yè)的shou選儀器。采用全新的生產(chǎn)技術(shù),在k-alpha的設(shè)計(jì)中集合了所有這些優(yōu)勢。k-alpha x射線光電子能譜儀
更新時(shí)間:2025-04-03
賽默飛 Theta Probe X射線光電子能譜儀
利用 thermo scientific? theta probe 角分辨 x 射線光電子能譜儀系統(tǒng)采集角分辨能譜，無須傾斜樣品即可無損表征超薄薄膜新型技術(shù)產(chǎn)品所依賴的是固體近表面區(qū)域的設(shè)計(jì)。對于這種類型的材料，包括自組裝單層、表面改性聚合物和半導(dǎo)體設(shè)備，確定表面幾納米的成分是關(guān)鍵。通過使用平行角分辨 xps (parxps) 和能夠提供準(zhǔn)確精密結(jié)果的 avantage 數(shù)據(jù)系統(tǒng)的先進(jìn)軟件，theta probe x 射線光電子能譜儀系統(tǒng)能夠幫助您做到這一點(diǎn)。描述
更新時(shí)間:2025-04-03
PHI 4700 AES掃描式俄歇電子能譜儀
在開發(fā)新材料及薄膜制程上，為了有助于了解材料組成間的相互作用及解決工藝流程的問題，材料組成或薄膜迭層的深度分析是非常重要的。phi 4700使用了aes分析技術(shù)為基礎(chǔ)，搭配靈敏度半球型能量分析器、10 kv lab6掃瞄式電子槍、5 kv浮動(dòng)柱狀式ar離子槍及高精密度自動(dòng)樣品座。針對例行性的俄歇縱深分析、微區(qū)域的故障分析，提供了全自動(dòng)與及高經(jīng)濟(jì)效益的解決方法。phi 4700是建基于ulvac-phi公司的高性能phi 700xi俄歇掃描納米探針。它提供了高度自動(dòng)化，低成本、高效益的方案進(jìn)行例行俄歇深度分析和微米范圍的故障分析。 phi 4700可以輕易的配備上互聯(lián)網(wǎng)的設(shè)備，以供遠(yuǎn)程操作或監(jiān)控之用
更新時(shí)間:2025-04-03
Nexsa 賽默飛 Nexsa™ X 射線光電子能譜儀 XPS
賽默飛 nexsa™ x 射線光電子能譜儀 (xps) 系統(tǒng)能提供全自動(dòng)、高通量的多技術(shù)分析，并可保持研究級結(jié)果的高質(zhì)量水平。iss、ups、reels、拉曼等多種分析技術(shù)集于一
更新時(shí)間:2025-04-03
EscaLab 250Xi 賽默飛 EscaLab 250Xi X射線光電子能譜儀
賽默飛 escalab 250xi x射線光電子能譜儀是一臺(tái)多功能高性能的表面分析儀器，它可以用于研究各種固體材料樣品表面（1-10nm厚度）的元素種類、化學(xué)價(jià)態(tài)以及相對含量。結(jié)合離子刻蝕技術(shù)還可以獲
更新時(shí)間:2025-04-03
Versaprobe II PHI 5000 Versaprobe II X射線光電子能譜儀
phi 5000 versaprobe ii x射線光電子能譜儀是材料科學(xué)和發(fā)展的領(lǐng)域中zui廣泛使用的表面分析技術(shù)。其原理是利用x射線束（一般會(huì)使鋁陽極或鎂陽極）作為入射源，照射在樣品表面導(dǎo)致讓光電
更新時(shí)間:2025-04-03
K-Alpha+ 賽默飛 K-Alpha+ X射線光電子能譜儀系統(tǒng)
賽默飛 k-alpha+ x射線光電子能譜儀系統(tǒng)是一款*集成的x射線光電子能譜。獲獎(jiǎng)的版k-alpha平臺(tái)特征光譜性能顯著提高，提供更高計(jì)數(shù)率和更快分析時(shí)間，改善化學(xué)探測能力。分析選配件包括一個(gè)角分辨
更新時(shí)間:2025-04-03
Quantera II PHI Quantera II X射線光電子能譜儀
phi quantera ii x射線光電子能譜儀是ulvac-phi公司以在業(yè)界獲得非常成績的quantum 2000和quantera sxm之上延申后所研發(fā)的xps分析儀器，其革命性超卓技術(shù)包括
更新時(shí)間:2025-04-03
賽默飛 Nexsa系列 X射線光電子能譜儀
thermo scientific? nexsa? x 射線光電子能譜儀 (xps) 系統(tǒng)能提供全自動(dòng)、高通量的多技術(shù)分析，并可保持研究級結(jié)果的高質(zhì)量水平。iss、ups、reels、拉曼等多種分析技術(shù)集于一身，用戶因此能夠進(jìn)行真正意義上的相關(guān)性分析，從而為微電子、超薄膜、納米技術(shù)開發(fā)以及許多其他應(yīng)用進(jìn)一步取得進(jìn)展釋放潛能。nexsa 能譜儀具有靈活性，可zui大限度地發(fā)揮材料潛能。在使結(jié)果保持研究級質(zhì)量水平的同時(shí)，以多重整合技術(shù)選項(xiàng)的形式提供靈活性，從而實(shí)現(xiàn)真正意義上的相關(guān)性數(shù)據(jù)分析和高通量。標(biāo)準(zhǔn)化功能催生強(qiáng)大性能：絕緣體分析
更新時(shí)間:2025-04-03

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