掃描電子顯微鏡（SEM）產(chǎn)品及廠家

韓國賽可臺(tái)式掃描電鏡4500主要功能
table-sem (臺(tái)式掃描電子顯微鏡)主要功能 1) 大放大倍率15萬倍 2) top-view ccd 相機(jī) - navigation mode : 樣品原圖像抓取 - click & move (auto) 3) fully motorzied stage - x,y,r,z,t - 5軸 - recipe function : 分析位置儲(chǔ)存后再分析功能 4) b type : se (二
更新時(shí)間:2025-04-03
韓國SEC掃描電子顯微鏡采購價(jià)格
sne-3000ms系列產(chǎn)品是針對(duì)工廠和實(shí)驗(yàn)室配置的一款高端掃描電鏡.
更新時(shí)間:2025-04-03
韓國賽可臺(tái)式掃描電鏡4500
table-sem (臺(tái)式掃描電子顯微鏡)主要功能 1) 大放大倍率15萬倍 2) top-view ccd 相機(jī) - navigation mode : 樣品原圖像抓取 - click & move (auto) 3) fully motorzied stage - x,y,r,z,t - 5軸 - recipe function : 分析位置儲(chǔ)存后再分析功能 4) b type : se (二
更新時(shí)間:2025-04-03
韓國SEC掃描電子顯微鏡
sne-3000ms系列產(chǎn)品是針對(duì)工廠和實(shí)驗(yàn)室配置的一款高端掃描電鏡.
更新時(shí)間:2025-04-03
蔡司 EVO MA鎢燈絲掃描電子顯微鏡
蔡司公司最新推出的sigma 500/vp場發(fā)射掃描電鏡采用成熟的gemini光學(xué)系統(tǒng)設(shè)計(jì)，分辨率超過0.8nm，為您提供最高分辨率和最佳分析性能科研平臺(tái)。sigma500/vp專注于一流的eds幾何學(xué)設(shè)計(jì)使您可以獲取精湛的分析性能。借助sigma直觀便捷的四步工作流程可以快速成像、簡化分析程序、提高工作效率。您會(huì)比以往更快、更多的獲取數(shù)據(jù)。多種探測(cè)器的選擇使sigma500/vp可以精準(zhǔn)的匹配您的應(yīng)用程序：您可以獲取微小粒子、表面、納米結(jié)構(gòu)、薄膜、涂層和多層的圖像信息！炯夹g(shù)參數(shù)】分辨率： 0.8nm @15 kv 1.6 nm @1kv
更新時(shí)間:2025-04-03
蔡司 Gemini SEM場發(fā)射掃描電子顯微鏡
二十多年來，基于日漸完善的gemini技術(shù)，geminisem具有完整高效的檢測(cè)系統(tǒng)、極高的分辨率以及簡便的操作方式。gemini物鏡設(shè)計(jì)將靜電場與磁場結(jié)合，可在最大限度地提升光學(xué)性能的同時(shí)將場發(fā)射對(duì)樣品的損傷降至最低。此設(shè)計(jì)確保了極佳的成像質(zhì)量，即使是較具挑戰(zhàn)性的磁性材料也同樣可以達(dá)到良好的成像效果。通過二次電子和背散射電子的檢測(cè)也使得高效率的信號(hào)探測(cè)成為可能。探測(cè)器安裝在光軸上，可以減少調(diào)整時(shí)間，并可最大限度地降低成像時(shí)間。gemini電子束加速器技術(shù)確保了小的探針尺寸和高的信噪比，以達(dá)到超低的加速電壓！炯夹g(shù)參數(shù)】
更新時(shí)間:2025-04-03
FEI Inspect 掃描電子顯微鏡
nspecttm系列滿足傳統(tǒng)高分辨率樣品研究所需的一切，簡單易用的 inspecttm 專為滿足研究各類材料以及表征材料結(jié)構(gòu)和成分的主流需求而設(shè)計(jì)，配備高穩(wěn)定分辨率平臺(tái)，可滿足大多數(shù)研究的需要。簡單易用的界面可實(shí)現(xiàn)準(zhǔn)確、快速的數(shù)據(jù)收集：將表面形貌和成分圖像與快速元素分析結(jié)合，確定材料特性及其化學(xué)元素組成。在眾多領(lǐng)域，高分辨率和高電流 feg 掃描電鏡的價(jià)值在于有助應(yīng)對(duì)生成高品質(zhì)圖像和實(shí)施快速分析的挑戰(zhàn)。
更新時(shí)間:2025-04-03
FEI Nova Nano SEM 場發(fā)射掃描電子顯微鏡
該產(chǎn)品是世界上di一款可以對(duì)有機(jī)材料、基板、多孔材料、塑料以及高聚物材料等有電荷積累的樣品和/或污染性樣品進(jìn)行超高分辨表征的低真空?qǐng)霭l(fā)射掃描電子顯微鏡（feg-sem）。作為fei公司引領(lǐng)市場的眾多設(shè)備中zui新的一員，nova nanosem為用戶在納米研究、開發(fā)與生產(chǎn)的相關(guān)工作提供了更多的可能。 nova nanosem的出現(xiàn)為那些非導(dǎo)電的以及有污染的納米材料研究和開發(fā)者們帶來了新的表征手段。與nanosem同時(shí)
更新時(shí)間:2025-04-03
FEI Magellan 極高分辨率掃描電子顯微鏡
全新的 magellan? 400 sem 是首款可在1-30 kv 電子能量范圍內(nèi)提供亞納米級(jí)分辨率的掃描電鏡，有效建立被稱為 xhr 掃描電鏡的全新性能類別。非凡的低加速電壓性能可提供其他技術(shù)根本無法實(shí)現(xiàn)的超高分辨率表面特定信息。在半導(dǎo)體和數(shù)據(jù)存儲(chǔ)市場，magellan 前所未有的性能可大幅擴(kuò)展 sem 的功能，提供基礎(chǔ)研究、流程和材料開發(fā)、流程控制以及故障分析所需的全面解決方案。它可實(shí)現(xiàn)快速高襯度成像，并具備大樣品或多樣品的亞納米級(jí)分辨率成像和全面分析
更新時(shí)間:2025-04-03
FEI Titan ETEM G2 透射電子顯微鏡
?titan etem g2 是我們專用的環(huán)境 tem 平臺(tái)，設(shè)計(jì)用來觀測(cè)功能性納米材料及其隨著時(shí)間的推移對(duì)氣體和溫度刺激的響應(yīng)。憑借du一無二的差動(dòng)泵目鏡，標(biāo)本區(qū)可變身為實(shí)驗(yàn)室，展開對(duì)催化劑微粒、納米器件和其他材料的研究，進(jìn)而在原子級(jí)別洞察表面和界面形態(tài)及相互作用。在需要時(shí)，titan etem 還可作為標(biāo)準(zhǔn) s/tem 開展原子級(jí)別成像。- 化學(xué)成分和價(jià)鍵狀態(tài)研究
更新時(shí)間:2025-04-03
FEI Apreo 場發(fā)射掃描電子顯微鏡
apreo 復(fù)合透鏡設(shè)計(jì)結(jié)合了靜電和磁浸沒技術(shù)，可產(chǎn)生前所未有的高分辨率和信號(hào)選擇。這使得 apreo 成為研究納米顆粒、催化劑、粉末和納米器件的理想平臺(tái)，并且不會(huì)降低磁性樣品性能。apreo 受益于獨(dú)特的透鏡內(nèi)背散射探測(cè)，這種探測(cè)提供卓越的材料對(duì)比度，即使在傾斜、工作距離很短或用于敏感樣品時(shí)也不例外。新型復(fù)合透鏡通過能量過濾進(jìn)一步提高了對(duì)比度并增加了用于絕緣樣品成像的電荷過濾？蛇x低真空模式，現(xiàn)在的zui大樣品倉壓力為 500 pa，可以對(duì)要求zui嚴(yán)苛的絕緣體進(jìn)行成像。通過這些優(yōu)勢(shì)（包括復(fù)合末級(jí)透鏡、高級(jí)探測(cè)和靈活樣品處理），apreo 可提供出色的性能和多功能性，幫助您應(yīng)對(duì)未來的研究難題。
更新時(shí)間:2025-04-03
FEI Talos F200系列 透射電子顯微鏡
fei talos f200x 融合了出色的高分辨率掃描/透射電子顯微鏡 (stem) 和 tem 成像功能與行業(yè)ling先的能量色散 x 射線光譜儀 (eds) 信號(hào)檢測(cè)功能及基于成分測(cè)繪的三維化學(xué)表征功能。talos f200x 可在所有維度 (1d-4d) 下實(shí)現(xiàn)zui快速、zui精確的 eds 分析，以及zui好且支持快速導(dǎo)航的動(dòng)態(tài)顯微鏡 hrtem 成像。fei talos f200x 融合了出色的高分辨率掃描/透射電子顯微鏡 (stem) 和 tem 成像功能與行業(yè)ling先的能量色散 x 射線光譜儀 (eds)。talos f200s 在 stem 成像上具有極大的多功能性和極高的通量。它可以為動(dòng)態(tài)顯微鏡實(shí)現(xiàn)zui精確的 eds 分析和zui好的 hrtem。與此同時(shí)，fei talos f200s 還提供zui高的穩(wěn)定性和最長的正常運(yùn)行時(shí)間。
更新時(shí)間:2025-04-03
FEI Quanta系列 環(huán)境掃描電子顯微鏡
要特點(diǎn)：1.fei esem(環(huán)境掃描電鏡)技術(shù), 可在高真空、低真空和環(huán)境真空條件下對(duì)各種樣品進(jìn)行觀察和分析。2.所有真空條件下的二次電子、背散射電子觀察和微觀分析。3.先進(jìn)的系統(tǒng)結(jié)構(gòu)平臺(tái)，全數(shù)字化系統(tǒng)。
更新時(shí)間:2025-04-03
FEI Verios XHR SEM 掃描電子顯微鏡
verios xhr semverios 是 fei ling先的 xhr（極高分辨率）sem 系列的第二代產(chǎn)品。在jian端半導(dǎo)體制造和材料科學(xué)應(yīng)用中，它可在 1 至 30 kv 范圍內(nèi)提供亞納米量級(jí)分辨率以及增強(qiáng)的對(duì)比度，滿足材料精密測(cè)量所需，同時(shí)又不會(huì)削弱傳統(tǒng)掃描電子顯微鏡 (sem) 所具有的高吞吐量、分析能力、樣本靈活性和易用性等優(yōu)勢(shì)。verios 的生命科學(xué)應(yīng)用觀測(cè)敏感的生物樣本時(shí)，
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飛納 Phenom Pro 全自動(dòng)臺(tái)式掃描電子顯微鏡
飛納高分辨率專業(yè)版 phenom pro 是飛納電鏡系列中最先進(jìn)的產(chǎn)品，第四代 phenom pro 放大倍數(shù)提升為 130,000 倍，分辨率優(yōu)于 14 nm，30 秒快速得到表面細(xì)節(jié)豐富的高質(zhì)量圖像，是目前世界上分辨率最高的臺(tái)式掃描電鏡，可用于測(cè)量亞微米或納米尺度的樣品；飛納高分辨率專業(yè)版 phenom pro 繼承了飛納電鏡系列高分辨率、15 秒快速抽真空、不噴金觀看絕緣體、全自動(dòng)操作、2-3 年更換燈絲及防震設(shè)計(jì)等優(yōu)點(diǎn)。
更新時(shí)間:2025-04-03
SIGMA 蔡司 SIGMA高分辨率場發(fā)射掃描電子顯微鏡
蔡司 sigma高分辨率場發(fā)射掃描電子顯微鏡采用成熟的gemini光學(xué)系統(tǒng)設(shè)計(jì)，分辨率超過0.8nm，為您提供zui高分辨率和*分析性能科研平臺(tái)。sigma500/vp專注于*的eds幾何學(xué)設(shè)計(jì)使您可
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EVO MA 蔡司 EVO MA鎢燈絲掃描電子顯微鏡
蔡司 evo ma鎢燈絲掃描電子顯微鏡將鎢燈絲掃描電鏡的發(fā)展帶入了全新的時(shí)代，超大樣品室為各類繁雜的樣品以及繁重的工作提供了輕松的解決方案，自動(dòng)化的5軸樣品臺(tái)和大的x、y、z軸跟蹤掃描以及可變壓力的檢
更新時(shí)間:2025-04-03
Apreo FEI SEM Apreo 掃描電子顯微鏡
fei sem apreo 掃描電子顯微鏡革命性的復(fù)合透鏡設(shè)計(jì)結(jié)合了靜電和磁浸沒技術(shù)，可產(chǎn)生*的高分辨率和信號(hào)選擇。這使得 apreo 成為研究納米顆粒、催化劑、粉末和納米器件的理想平臺(tái)，并且不會(huì)降低
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Magellan400/460 FEI MagellanTM系列掃描電子顯微鏡
fei magellantm系列掃描電子顯微鏡界： 高靈敏的表面圖像、以及俯視或從其它角度觀看圖像，分辨率可達(dá)到一納米以下。 這款電鏡上的一些重要突破在于它鏡筒上采用了革命性的單色槍技術(shù),它使顯微學(xué)家
更新時(shí)間:2025-04-03
Quanta 系列 FEI Quanta系列 掃描電子顯微鏡
fei quanta系列 掃描電子顯微鏡包括6個(gè)變量的壓力和環(huán)境掃描電子顯微鏡（esem™）和兩個(gè)dualbeam™系統(tǒng)，所有這些都可以容納多個(gè)樣品和工業(yè)過程控制實(shí)驗(yàn)室，材料科
更新時(shí)間:2025-04-03
Nova Nano SEM FEI Nova Nano SEM 場發(fā)射掃描電子顯微鏡
fei nova nano sem 場發(fā)射掃描電子顯微鏡該產(chǎn)品是世界上*款可以對(duì)有機(jī)材料、基板、多孔材料、塑料以及高聚物材料等有電荷積累的樣品和/或污染性樣品進(jìn)行超高分辨表征的低真空?qǐng)霭l(fā)射掃描電子顯微
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Inspect FEI Inspect系列 掃描電子顯微鏡
fei inspect系列 掃描電子顯微鏡滿足傳統(tǒng)高分辨率樣品研究所需的一切，簡單易用的 inspecttm 專為滿足研究各類材料以及表征材料結(jié)構(gòu)和成分的主流需求而設(shè)計(jì)，配備高穩(wěn)定分辨率平臺(tái)，可滿足大
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Verios XHR SEM FEI Verios XHR SEM 掃描電子顯微鏡
fei verios xhr sem 掃描電子顯微鏡是 fei *的 xhr（*分辨率）sem 系列的第二代產(chǎn)品。在*半導(dǎo)體制造和材料科學(xué)應(yīng)用中，它可在 1 至 30 kv 范圍內(nèi)提供亞納米量級(jí)分辨率
更新時(shí)間:2025-04-03
Gemini 蔡司 Gemini SEM場發(fā)射掃描電子顯微鏡
蔡司 gemini sem場發(fā)射掃描電子顯微鏡二十多年來，基于日漸完善的gemini技術(shù)，geminisem具有完整高效的檢測(cè)系統(tǒng)、*的分辨率以及簡便的操作方式。gemini物鏡設(shè)計(jì)將靜電場與磁場結(jié)合
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SEM掃描電鏡，臺(tái)式掃描電子顯微鏡
sem掃描電鏡，臺(tái)式掃描電子顯微鏡在電子學(xué)研究中，掃描電鏡主要可以用來觀測(cè)及分析半導(dǎo)體、數(shù)據(jù)存儲(chǔ)材料、太陽能電池、led、元器件、pcb板及mems器件等的形態(tài)或缺陷 。
更新時(shí)間:2025-04-03
ZEISS 高分辨電子掃描顯微鏡
zeiss 高分辨電子掃描顯微鏡-evo 10,具備自動(dòng)化工作流程的高清晰掃描電鏡
更新時(shí)間:2025-04-03
日本電子JEOL場發(fā)射掃描電鏡
jsm-it800shl 是日本電子株式會(huì)社（jeol） 2020 年新推出的場發(fā)射掃描電鏡，它秉承 jeol 熱場發(fā)射掃描電鏡 jsm-7900f 的大束流，高穩(wěn)定性的傳統(tǒng)，同時(shí)將分辨率提高到新的限，全新設(shè)計(jì)的超混合型物鏡，高分辨率的獲得以及磁性樣品的觀察都可以同時(shí)完成，而且標(biāo)配 jeol 新開發(fā)的 neo
更新時(shí)間:2025-04-03
德國KSI 型 全自動(dòng)晶圓超聲波缺陷檢測(cè)系統(tǒng)
德國ksi i-wafer型全自動(dòng)晶圓超聲波缺陷檢測(cè)系統(tǒng)，在ksi i-wafer的探測(cè)下，晶圓中的孔隙、分層或者雜質(zhì)都能被發(fā)現(xiàn)。尺寸在450mm的多種晶圓也能進(jìn)行檢測(cè)
更新時(shí)間:2025-04-03
KSI 型全自動(dòng)晶錠分析檢測(cè)系統(tǒng)
ksi i-ingot型全自動(dòng)晶錠分析檢測(cè)系統(tǒng),適用于對(duì)晶錠的無損檢測(cè)，有了它，晶錠內(nèi)部的裂縫或雜質(zhì)就能得到快速檢測(cè)，晶錠的尺寸可達(dá)450mm，檢測(cè)時(shí)間短，也不需要做其它設(shè)定。
更新時(shí)間:2025-04-03
KSI高分辨率表層缺陷超聲波掃描顯微鏡系統(tǒng)
ksi－nano型高分辨率表層缺陷超聲波掃描顯微鏡系統(tǒng)聲學(xué)顯微成像系統(tǒng)和光學(xué)顯微成像系統(tǒng)的完美結(jié)合
更新時(shí)間:2025-04-03
德國KSI 雙探頭超聲波掃描顯微鏡系統(tǒng)
ksi v-duo 雙探頭超聲波掃描顯微鏡系統(tǒng)，同時(shí)使用2只換能器
更新時(shí)間:2025-04-03
德國ZEISS蔡司聚焦離子束掃描電鏡FIB/SEM
德國zeiss蔡司聚焦離子束掃描電鏡fib/sem crossbeam 350，crossbeam 550
更新時(shí)間:2025-04-03
日本JEOL掃描電子顯微鏡
日本jeol掃描電子顯微鏡 jsm-it200 intouchscope ，是一款更簡潔、更易于使用且性價(jià)比高的掃描電子顯微鏡。使用初學(xué)者易懂的樣品交換導(dǎo)航，可以輕松地從樣品臺(tái)搜索視野并開始觀察sem圖像。zeromag能像光鏡一樣直觀地搜索視野，live analysis*2可以不用特意分析就能實(shí)時(shí)獲取元素分析結(jié)果，smile viewtm lab能綜合編輯觀察和分析報(bào)告等。
更新時(shí)間:2025-04-03
日本JEOL掃描電子顯微鏡
日本jeol掃描電子顯微鏡 jsm-it500hr，采用新開發(fā)的高亮度電子槍和透鏡系統(tǒng)，可以更迅速便捷地提供令人驚嘆的高分辨率圖像、高靈敏度和高空間分辨率；從設(shè)定視野到生成報(bào)告，利用完全集成的軟件大大地提高了作業(yè)速度。
更新時(shí)間:2025-04-03
日本JEOL熱場發(fā)射掃描電子顯微鏡
日本jeol熱場發(fā)射掃描電子顯微鏡 jsm-7900f
更新時(shí)間:2025-04-03
日本JEOL低溫冷凍離子切片儀
日本jeol低溫冷凍離子切片儀ib-09060cis，冷卻保持時(shí)間長，有效地抑制了熱損傷。易受熱損傷的樣品，也能方便地制作出薄膜樣品和截面樣品。
更新時(shí)間:2025-04-03
日本JEOL 離子切片儀
日本jeol 離子切片儀 em-09100is ，用于tem 、stem 、 sem 、 epma 和 auger樣品制備的創(chuàng)新方法 離子切片儀制備薄膜樣品比傳統(tǒng)制備工具快速、簡單。低能量、低角度（0°到6°）的氬離子束通過遮光帶照射樣品，大大降低了離子束對(duì)樣品的輻照損壞。即使是柔軟的材料,制備的薄膜質(zhì)量也好，對(duì)不同成份的樣品甚至含有多孔合成物也都能夠有效制備。
更新時(shí)間:2025-04-03
日本JEOL截面樣品拋光儀
日本jeol截面樣品拋光儀ib-19530cp，采用多用途樣品臺(tái)，通過交換各種功能性樣品座實(shí)現(xiàn)了功能的多樣化。根據(jù)需要可以選擇不同的功能性樣品座，不僅能截面刻蝕，還可以進(jìn)行平面刻蝕、離子束濺射鍍膜等。
更新時(shí)間:2025-04-03
日本JEOL截面樣品制備裝置
日本jeol截面樣品制備裝置ib-19530cp，采用多用途樣品臺(tái)，通過交換各種功能性樣品座實(shí)現(xiàn)了功能的多樣化。根據(jù)需要可以選擇不同的功能性樣品座，不僅能截面刻蝕，還可以進(jìn)行平面刻蝕、離子束濺射鍍膜等。
更新時(shí)間:2025-04-03
日本JEOL 截面樣品拋光儀
日本jeol 截面樣品拋光儀 ib-19520ccp，在加工過程中利用液氮冷卻，能減輕離子束對(duì)樣品造成的熱損傷。冷卻持續(xù)時(shí)間長、液氮消耗少的構(gòu)造設(shè)計(jì)。在裝有液氮的情況下，也能將樣品快速冷卻、恢復(fù)到室溫，并且可以拆卸。配有傳送機(jī)構(gòu)，在隔離空氣的環(huán)境下能完成從加工到觀察的全過程。
更新時(shí)間:2025-04-03
日本JEOL 軟X射線分析譜儀
日本jeol 軟x射線分析譜儀，通過組合新開發(fā)的衍射光柵和高靈敏度ｘ射線ccd相機(jī)，實(shí)現(xiàn)了高的能量分辨率。 和eds一樣可以并行檢測(cè)，并且能以0.3ev(費(fèi)米邊處al-l基準(zhǔn))的高能量分辨率進(jìn)行分析，超過了wds的能量分辨率。
更新時(shí)間:2025-04-03
日本JEOL 電子探針顯微分析儀
日本jeol 電子探針顯微分析儀 jxa-ihp100，可以安裝通用性強(qiáng)、使用方便的能譜儀x射線探測(cè)器，組合使用wds和eds，能提供無縫、舒適的分析環(huán)境。
更新時(shí)間:2025-04-03
日本JEOL 聚焦離子束加工觀察系統(tǒng)
日本jeol 聚焦離子束加工觀察系統(tǒng) jib-4000，配置了高性能的離子鏡筒(單束fib裝置)。被加速了的鎵離子束經(jīng)聚焦照射樣品后，就能對(duì)樣品表面進(jìn)行sim觀察 、研磨，沉積碳和鎢等材料。還可以為tem成像制備薄膜樣品，為觀察樣品內(nèi)部制備截面樣品。通過與sem像比較，sim像能清楚地顯示出歸因于晶體取向不同的電子通道襯度差異，這些都非常適合于評(píng)估多層鍍膜的截面及金屬結(jié)構(gòu)。
更新時(shí)間:2025-04-03
日本JEOL 雙束加工觀察系統(tǒng)
日本jeol 雙束加工觀察系統(tǒng) jib-4700f，該設(shè)備的sem鏡筒中采用了超級(jí)混合圓錐形物鏡、gb模式和in-lens檢測(cè)器系統(tǒng)，在1kv低加速電壓下,實(shí)現(xiàn)了1.6nm的保證分辨率,與最大能獲得300na探針電流的浸沒式肖特基電子槍組合，可以進(jìn)行高分辨率觀察和高速分析。
更新時(shí)間:2025-04-03
日本JEOL 能量色散型X射線熒光分析儀
日本jeol 能量色散型x射線熒光分析儀 jsx-1000s，采用觸控屏操作、提供更加簡便迅速的元素分析。具備常規(guī)定性、定量分析（fp法・檢量線法）、rohs元素篩選功能等。利用豐富的硬件/軟件選配件、還能進(jìn)行更廣泛的分析。
更新時(shí)間:2025-04-03
德Neaspec真空太赫茲波段近場光學(xué)顯微鏡
德neaspec真空太赫茲波段近場光學(xué)顯微鏡hv-thz-neasnom，該套系統(tǒng)成功地繼承了德國neaspec公司thz-neasnom的設(shè)計(jì)優(yōu)勢(shì)，采用專利保護(hù)的雙光路設(shè)計(jì)，完全可以實(shí)現(xiàn)真空環(huán)境下太赫茲波段應(yīng)用的樣品測(cè)量。hv-thz-neasnom在實(shí)現(xiàn)30nm高空間分辨率的同時(shí)，由于采用0.1-3thz波段的時(shí)域太赫茲光源（thz-tds），也可以實(shí)現(xiàn)近場太赫茲成像和圖譜的同時(shí)測(cè)量。
更新時(shí)間:2025-04-03
太赫茲近場光學(xué)顯微鏡
thz-neasnom太赫茲近場光學(xué)顯微鏡 -30nm光學(xué)信號(hào)空間分辨率
更新時(shí)間:2025-04-03
多面掃描鏡
可實(shí)現(xiàn)大范圍、超高速、高精度與高重復(fù)性的激光光束掃描。多面掃描鏡裝置/多面轉(zhuǎn)鏡包括電機(jī)與多面鏡，多面鏡具有多個(gè)反射面，并安裝在電動(dòng)機(jī)的旋轉(zhuǎn)軸上。通過電機(jī)的旋轉(zhuǎn)，多面鏡可實(shí)現(xiàn)高速旋轉(zhuǎn)，從而實(shí)現(xiàn)大角度、高速的光束掃描。
更新時(shí)間:2025-04-02
Phenom MAPS 大面積圖像拼接
phenom maps 作為一款多模態(tài)多維度地圖式圖像自動(dòng)采集及拼接軟件，可自動(dòng)獲取大型圖像數(shù)據(jù)集，并直觀地組合和關(guān)聯(lián)多種成像、分析模式，從而提供多尺度和多模態(tài)的表征數(shù)據(jù)。
更新時(shí)間:2025-04-01
ChemiSEM 彩色成像技術(shù)
飛納電鏡推出的 chemisem 技術(shù)，將 sem 形貌觀察與 eds 成分分析相結(jié)合，讓工作流程更加流暢，簡化了許多材料（包括金屬、陶瓷、電池、涂層、水泥和軟物質(zhì)材料等）的分析流程：通過彩色元素分布圖與 sem 圖像的實(shí)時(shí)疊加，在成像同時(shí)提供高質(zhì)量的成分定性定量信息。
更新時(shí)間:2025-04-01

最新產(chǎn)品

熱門儀器： 液相色譜儀 氣相色譜儀 原子熒光光譜儀 可見分光光度計(jì) 液質(zhì)聯(lián)用儀 壓力試驗(yàn)機(jī) 酸度計(jì)（PH計(jì)） 離心機(jī) 高速離心機(jī) 冷凍離心機(jī) 生物顯微鏡 金相顯微鏡 標(biāo)準(zhǔn)物質(zhì) 生物試劑